tft-lcd玻璃清洗机提升工艺的2种方法
作者:admin 文章出处:未知发布时间:2019-11-11 22:02 浏览人次:
tft玻璃前清洗机
TFT-LCD液晶面板结构和薄化目标示意图:
通过对TFT-LCD面板的减薄可实现主要几点面板应用需求:
使用化学或物理方法使面板玻璃的厚度变小,以达到面板轻薄化的目的。使显示屏重量减轻;提供更清晰明亮的画质。减少占用空间,减少TFT-LCD模组的厚度,腾出更多空间,如增加电池容量等。使玻璃基板达到一定的柔性,生产曲面屏幕,增加更好的可视效果。
一、TFT-LCD液晶面板薄化工艺类别、原理和方式介绍
1、在TFT-LCD业界现有薄化工艺主要分为两大类:
1.化学蚀刻(主要方式)
利用液体溶液与表面材料进行化学反应,应用HF与二氧化硅SiO2发生反应并使其溶解的原理,对面板玻璃表面进行化学腐蚀而使面板厚度变薄,6HF+SiO2->H2SiF6+2H2O
2.物理研磨(辅助方式)
通过机械的研磨作用在玻璃面板上,通过纯物理的方式减薄液晶面板。
液晶面板薄化过程中玻璃厚度变化示意图:
2、TFT-LCD薄化技术概述
化学蚀刻薄化
化学蚀刻薄化设备和其示意图:
化学蚀刻薄化方式都利用玻璃与化学溶液(HF)产生化学反应(行成“四氟化硅”SiF4),加上不同物理作用来达到面板薄化目的。
优点:
1.减薄速度较快适合工业化生产;
2.可根据需要调节酸液浓度以控制薄化速度。
缺点:
薄化后面板表面质量较难控制,许多化学薄化方式需后续抛光处理。现有化学蚀刻薄化方式的主要分类:
以上三种化学蚀刻方式各有优缺点且在实际生产中都有所应用
Dip:多片直立浸泡式
1、可以同时间处理多片玻璃;
2、装置大型,外围产生沉淀物,白色粉沫。
Spray:单片直立喷洒式
1、可以处理两面不同蚀刻要求;
2、化学液可有效回收利用使成本相对降低;
3、蚀刻表面易产生凹点(dimple)需要后续拋光处理。
Cascade:瀑布流式
基板上无需任何压力;高回收比例;废液最少;低抛光比例
辅助物理研磨薄化
物理研磨薄化设备和示意图
单面物理研磨薄化技术主要指机械设备抛光方式:
使用抛光粉加纯水形成抛光液做加工介质,下流经机台盛盘与panel之间,借机台运转做相对运动,使硬质磨料(如氧化铈抛光垫等)直接接触面板表面进而切屑panel表面。
主要用于短时间抛光以消除玻璃表面伤痕或其他不良。
二、TFT-LCD液晶面板薄化工艺流程概述
目前薄化工艺主要分为三个阶段:1、封胶工艺2、蚀刻减薄工艺3、研磨工艺
对应主要阶段各自工艺流程如下:
封胶工艺
封胶过程现场和设备图:
蚀刻减薄工艺
研磨工艺辅助物流研磨/抛光工艺,主要可分为四段工序概况如下图
对应每段工序操作事项如下:
1、外观检查—研磨/抛光前检查和玻璃尺寸确认
主要工艺事项:抛光不良确认、检验要求分析和玻璃尺寸确认和应用
2、进行研磨/抛光
研磨抛光前的准备工作:玻璃清洗和抛光环境的确认、抛光机台和工具的调试准备和耗材准备;其中耗材准备,其主要准备耗材有:抛光液、氧化铈抛光垫、清洗剂和吸附垫,对于耗材准备工艺应注意事情如下图:
抛光面板上下贴/揭片操作
3、研磨/抛光完成清洗
4、出库外观检验
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